第三十三屆國際半導體物理大會（ICPS 2016）

第三十三屆國際半導體物理大會（ICPS2016）于2016年7月31日至8月5日在北京召開。德儀科技作為主贊助商之一參加了會議。國際半導體物理大會是半導體物理領域內最高水平的學術會議，具有重大國際影響力，每屆都有多名諾貝爾物理學獎獲得者參加并作報告。會議的主要目的是為各個領域的物理學家提供學術討論和交流的平臺，會議內容包括半導體物理研究的所有分支，如...

真空鍍膜機鍍前預處理和鍍后處理方法

 鍍前預處理的目的是為了得到干凈新鮮的金屬表面，為最后獲得高質量鍍層作準備，要進行脫脂、去銹蝕、去灰塵等工作

磁控濺射種類

  磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氬氣產生離子的概率。所產生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材

真空鍍膜機原理和各部件分析

  真空鍍膜機是目前制作真空條件應用最為廣泛的真空設備，一般用真空室、真空機組、電氣控制柜三大部分組成，排氣系統采用“擴散泵+機械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成。本公司專業從事真空鍍膜設備的研發與生產擁有經驗豐富的技術團隊及優質的售后服務隊伍為您解決設備在使用過程中遇到的任何問題

磁控濺射鍍膜膜厚均勻性設計方法

    磁控濺射 鍍膜是現代工業中不可缺少的技術之一， 磁控濺射 鍍膜技術正廣泛應用于透明導電膜、光學膜、超硬膜、抗腐蝕膜、磁性膜、增透膜、減反膜以及各種裝飾膜，在國防和國民經濟生產中的作用和地位日益強大。鍍膜工藝中的薄膜厚度均勻性，沉積速率，靶材利用率等方面的問題是實際生產中十分關注的。解決這些實...